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制御応答性が高く、ガス放出のきわめて少ない構造のクリーンヒーターです。
試料直接照射加熱、及びホットプレート間接加熱ともに対応可能です。
熱容量が小さく、超高真空中・大気圧中・酸素雰囲気中での使用が可能です。
【特徴】
●均一照射が可能なハロゲンランプによる、経済的でエネルギー効率・応答性の高いヒーターです。
●石英ボディーランプ、高温対応の金属リフレクタ・ベースで構成され、ガス放出が極めて少ない構造です。
●最高温度900℃（温調測定点、真空中）加熱可能で、非常に制御応答性が高いヒーターです。
●ヒーターの大型化・任意形状対応、表面処理機構増設、真空装置接続等の対応が可能です。
【使用例】
●基板加熱ヒーター(ＫＸ-１１０)
１．光源
ハロゲンランプ(５本)
２．電力
６００ＷＸ５本
３．照射エリア
φ100
４．加熱雰囲気
真空及び酸化雰囲気
５．ランプ制御
PID制御
６．電力
AC100V 50/60Hz
７．マウントフランジ
ICF253
８．温調用熱電対
300L（シース）
９．ヒーターリード線
300L（絶縁碍子付き）
10．導入端子付きフランジ
ICF70
③サイドエントリー２インチ基板加熱ホルダー
①熱ＣＶＤ用４インチ基板加熱ヒーター(KX-110)
②回転・加熱基板ホルダー
