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３連式電子ビーム蒸着装置
金属材料を対象とし、リフトオフ成膜可能な電子ビーム蒸着装置です。
３連式EBガンはスライド移動機構により、
メンテナンス性･作業性が簡便です。
●基板寸法:最大φ3インチ
●基板加熱温度:常用600℃
●リフトオフ成膜機構:特殊遮熱機構採用
●電子ビームガン:ハース３連手動スライド移動式
●EBガンメンテ機構:EBガンスライド移動機構
３源抵抗加熱蒸着装置
金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。
4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。
角型チャンパーにより、メンテナンス性が向上します。
●基板寸法:100×100
●基板加熱温度:常用600℃
●基板回転ホルダー
●水晶式膜厚計
●EB源増設ポート付
●抵抗加熱源:100A 3源切替式
斜入射型蒸着装置
アタッチメントフリーのKセルおよびコニカル型蒸着源を
備えた基板入射角可変型蒸着装置です。
任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で
固定でき、蒸着ポジションを調整することができます。
●Ｋセル
･ルツボ容量:2cc
･加熱温度:Max1,200℃
･加熱制御電源
●蒸着源
･ルツボ容量:2cc
･加熱温度:Max1,000℃
･加熱制御電源
